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  • Source: IEEE Electron Device Letters. Unidade: EP

    Subjects: SEMICONDUTORES, SILÍCIO

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    • ABNT

      OLIVEIRA, Alberto Vinicius de et al. GR-Noise Characterization of Ge pFinFETs With STI First and STI Last Processes. IEEE Electron Device Letters, v. 37, n. 9, p. 1092-1095, 2016Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/led.2016.2595398. Acesso em: 21 maio 2024.
    • APA

      Oliveira, A. V. de, Simoen, E., Mitard, J., Agopian, P. G. D., Langer, R., Witters, L. J., & Martino, J. A. (2016). GR-Noise Characterization of Ge pFinFETs With STI First and STI Last Processes. IEEE Electron Device Letters, 37( 9), 1092-1095. doi:10.1109/led.2016.2595398
    • NLM

      Oliveira AV de, Simoen E, Mitard J, Agopian PGD, Langer R, Witters LJ, Martino JA. GR-Noise Characterization of Ge pFinFETs With STI First and STI Last Processes [Internet]. IEEE Electron Device Letters. 2016 ; 37( 9): 1092-1095.[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1109/led.2016.2595398
    • Vancouver

      Oliveira AV de, Simoen E, Mitard J, Agopian PGD, Langer R, Witters LJ, Martino JA. GR-Noise Characterization of Ge pFinFETs With STI First and STI Last Processes [Internet]. IEEE Electron Device Letters. 2016 ; 37( 9): 1092-1095.[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1109/led.2016.2595398
  • Source: IEEE Electron Device Letters. Unidade: EP

    Subjects: TRANSISTORES, MODELOS MATEMÁTICOS, CAPACITORES

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    • ABNT

      NISSIMOFF, Albert et al. Spike Anneal Peak Temperature Impact on 1T-DRAM Retention Time. IEEE Electron Device Letters, v. 35, n. 6, p. 639-641, 2014Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/led.2014.2319094. Acesso em: 21 maio 2024.
    • APA

      Nissimoff, A., Martino, J. A., Aoulaiche, M., Veloso, A., Witters, L. J., Simoen, E., & Claeys, C. (2014). Spike Anneal Peak Temperature Impact on 1T-DRAM Retention Time. IEEE Electron Device Letters, 35( 6), 639-641. doi:10.1109/led.2014.2319094
    • NLM

      Nissimoff A, Martino JA, Aoulaiche M, Veloso A, Witters LJ, Simoen E, Claeys C. Spike Anneal Peak Temperature Impact on 1T-DRAM Retention Time [Internet]. IEEE Electron Device Letters. 2014 ; 35( 6): 639-641.[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1109/led.2014.2319094
    • Vancouver

      Nissimoff A, Martino JA, Aoulaiche M, Veloso A, Witters LJ, Simoen E, Claeys C. Spike Anneal Peak Temperature Impact on 1T-DRAM Retention Time [Internet]. IEEE Electron Device Letters. 2014 ; 35( 6): 639-641.[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1109/led.2014.2319094
  • Source: IEEE Electron Device Letters. Unidade: IFSC

    Subjects: SEMICONDUTORES, INFRAVERMELHO (MEDIÇÃO)

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    • ABNT

      LIANG, Jie et al. Broad-band photoresponse from InAs quantum dots embedded into InGaAs graded well. IEEE Electron Device Letters, v. 26, n. 9, p. Se 2005, 2005Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/led.2005.854392. Acesso em: 21 maio 2024.
    • APA

      Liang, J., Chua, Y. C., Manasreh, M. O., Marega Júnior, E., & Salamo, G. J. (2005). Broad-band photoresponse from InAs quantum dots embedded into InGaAs graded well. IEEE Electron Device Letters, 26( 9), Se 2005. doi:10.1109/led.2005.854392
    • NLM

      Liang J, Chua YC, Manasreh MO, Marega Júnior E, Salamo GJ. Broad-band photoresponse from InAs quantum dots embedded into InGaAs graded well [Internet]. IEEE Electron Device Letters. 2005 ; 26( 9): Se 2005.[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1109/led.2005.854392
    • Vancouver

      Liang J, Chua YC, Manasreh MO, Marega Júnior E, Salamo GJ. Broad-band photoresponse from InAs quantum dots embedded into InGaAs graded well [Internet]. IEEE Electron Device Letters. 2005 ; 26( 9): Se 2005.[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1109/led.2005.854392

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